[发明专利]邻氯苄星青霉素合成工艺有效
申请号: | 200410012481.4 | 申请日: | 2004-08-11 |
公开(公告)号: | CN1613859A | 公开(公告)日: | 2005-05-11 |
发明(设计)人: | 李勇;张延峰;张勇;张立辉;吴爱宝;郭惠娟 | 申请(专利权)人: | 石药集团中诺药业(石家庄)有限公司 |
主分类号: | C07D499/76 | 分类号: | C07D499/76 |
代理公司: | 石家庄新世纪专利事务有限公司 | 代理人: | 董金国 |
地址: | 050051河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明涉及一种邻氯苄星青霉素合成工艺,将6-氨基青霉烷酸在有机溶剂的水溶液中先溶于稀碱液成钠盐后,与邻氯苯甲异噁唑酰氯缩合直接得到邻氯青霉素钠的溶液,再与N,N-二苄基乙二胺二醋酸进行复分解反应得到本品。本发明的有益效果是其工艺简单,操作简便,成本低,易于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 邻氯苄星 青霉素 合成 工艺 | ||
【主权项】:
1、一种邻氯苄星青霉素合成工艺,其特征在于将6-氨基青霉烷酸在有机溶剂的水溶液中先溶于稀碱液成钠盐后,与邻氯苯甲异噁唑酰氯缩合直接得到邻氯青霉素钠的溶液,再与N,N-二苄基乙二胺二醋酸进行复分解反应得到本品;其具体工艺步骤如下:(1)按有机溶剂与水的比为(1-5)∶1的比例配制有机溶剂的水溶液,并加入缩合罐中,开启搅拌及夹套冷却水,按66-200克/每升有机溶剂水溶液加入6-氨基青霉烷酸;当温度降至15℃以下时,开始向罐内加入浓度为10%的NaOH溶液,保持PH值为7-8,使6-氨基青霉烷酸逐渐溶解为止; (2)按6-氨基青霉烷酸与邻氯苯甲异噁唑酰氯的摩尔比为1∶(0.95-1.15)的比例称取邻氯苯甲异噁唑酰氯,当上述(1)步中的钠盐溶液的温度冷却至10℃以下时,开始向罐内加入称量好的邻氯苯甲异噁唑酰氯,然后开始加入浓度为10%的NaOH溶液,并控制罐内的PH值为6-7,温度不超过20℃,直至PH值稳定在6.5且反应液澄清为止; (3)将上述(2)中的澄清反应液通过除菌滤器压入无菌室的结晶罐内; (4)在配制罐中加入理论量的N,N-二苄基乙二胺二醋酸,并加水稀释使其浓度控制在0.1-0.3g/ml,搅拌并用夹套热水加热使N,N-二苄基乙二胺二醋酸溶解,然后放入活性炭进行搅拌,以脱色及吸收杂质;取样测定N,N-二苄基乙二胺二醋酸的含量,合格后通过除菌滤器压入无菌室,待用;(5)将结晶罐内的料液用夹套水使料液温度达到10-40℃,开启搅拌,然后向罐内缓慢、均匀加入N,N-二苄基乙二胺二醋酸溶液,加完后再继续搅拌30分钟;(6)打开结晶罐放料阀,使结晶料液放入抽滤罐,同时开启真空抽滤,抽干得湿滤饼;滤饼用上述(1)步中有机溶剂的水溶液洗涤三次,每次洗涤用40L有机溶剂的水溶液,并且有机溶剂的水溶液的浓度为30-100%,抽干得湿粉;(7)将湿粉过筛,转移至双锥干燥器内,打开双锥夹套蒸汽阀门,控制烘干温度为80±5℃,真空干燥至水分小于5%。
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