[发明专利]透明材料激光内部雕刻设备无效

专利信息
申请号: 200410013415.9 申请日: 2004-07-04
公开(公告)号: CN1593942A 公开(公告)日: 2005-03-16
发明(设计)人: 朱晓;朱长虹;齐丽君;朱广志 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B44B1/00 分类号: B44B1/00;B23K26/00;H01S5/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 代理人: 朱仁玲
地址: 430074湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种透明材料激光内部雕刻设备,包括激光器、扩束镜、两个光束偏转镜、聚焦镜和计算机。激光器包括全反镜、声光调Q器件、半导体泵浦模块、倍频晶体、输出镜,全反镜镀有基频光全反膜层,或者同时镀有基频光和倍频光双全反膜层,输出镜镀有对基频光透过率为4%~10%和对倍频光全透的膜层,声光调Q器件电源调节声光调Q器件的驱动频率,产生1~10千赫兹调Q倍频激光脉冲输出,计算机控制xy工作台,实现第一光束偏转镜、第二光束偏转镜和聚焦镜在X、Y方向上的运动,控制一维电控位移台,实现聚焦镜或透明材料在Z方向上的运动。本发明激光输出模式好,光功率稳定、效率高;雕刻速度快,适合进行大幅面透明材料的雕刻。
搜索关键词: 透明 材料 激光 内部 雕刻 设备
【主权项】:
1.一种透明材料激光内部雕刻设备,其特征在于:包括激光器(1)、扩束镜(2)、第一光束偏转镜(3)、第二光束偏转镜(4)、聚焦镜(5)和计算机(6);激光器(1)包括全反镜(9)、声光调Q器件(10)及其电源(14)、半导体泵浦模块(11)、倍频晶体(12)、输出镜(13),全反镜(9)镀有基频光全反膜层,或者同时镀有基频光和倍频光双全反膜层,输出镜(13)同时镀有对基频光透过率为4%~10%和对倍频光全透的膜层,电源(14)调节声光调Q器件(10)的驱动频率,产生1~10千赫兹调Q倍频激光脉冲输出;扩束镜(2)将激光器(1)输出的激光束直径扩大,发散角压缩,使激光束通过聚焦镜(5)聚焦后的光斑直径缩小,得到小的聚焦光斑;第一光束偏转镜(3)安装在xy工作台(7)的x轴上,将经过扩束镜(2)后的平行于x轴的激光束偏转成平行于y轴的激光束;第二光束偏转镜(4)安装在xy工作台(7)的y轴上,将上述平行于y轴的激光束偏转成平行于z轴的激光束;聚焦镜(5)将上述平行于z轴的激光束聚焦到透明材料中;计算机(6)控制xy工作台(7),实现第一光束偏转镜(3)在X方向上的运动,第二光束偏转镜(4)和聚焦镜(5)在X、Y方向上的运动。
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