[发明专利]正性光刻胶的制作方法无效
| 申请号： | 200410014386.8 | 申请日： | 2004-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN1673864A | 公开（公告）日： | 2005-09-28 |
| 发明（设计）人： | 林广德 | 申请（专利权）人： | 林广德 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 | 代理人： | 殷春蕾 |
| 地址： | 212124江苏省镇江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种正性光刻胶的制作方法，依次包括如下步骤：a)在丙烯酸酯单体的a－位引入2，2，3，3－四氟乙基，合成a－含氟丙烯酸酯单体；b)利用a－含氟丙烯酸酯自聚或与丙烯酸酯类化合物共聚成含氟量不同的光刻材料；c)利用步骤b)材料生产亚微米级a－含氟丙烯酸酯正性光刻材料，分辨率≤0.4μm。本发明是在丙烯酸酯的分子结构中引入X－RAY吸收系数较高的原子或基团、在丙烯酸的X一位引入强吸电子基团和在聚丙烯酸酯系列的分子的主链的季碳原子上引入有位阻的大基团，改进高聚物对辐照的吸收性能和提高辐照感度，利用与丙烯酸酯类化合物的共聚进一步提高抗蚀剂的感度和TG，分辨率≤0.4μm。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种正性光刻胶的制作方法，其特征是依次包括如下步骤：a)在丙烯酸酯单体的a-位引入2，2，3，3-四氟乙基，合成a-含氟丙烯酸酯单体：![]()
b)利用a-含氟丙烯酸酯自聚或与丙烯酸酯类化合物共聚成含氟量不同的光刻材料；c)利用步骤b)材料生产亚微米级a-含氟丙烯酸酯正性光刻材料，分辨率≤0.4μm。
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