[发明专利]高喜树碱类化合物及其制备方法和用途无效

专利信息
申请号: 200410016229.0 申请日: 2004-02-12
公开(公告)号: CN1557814A 公开(公告)日: 2004-12-29
发明(设计)人: 张万年;杨松;姚建忠;余建鑫;盛春泉;朱杰;宋云龙;张珉;缪震元;张晶 申请(专利权)人: 中国人民解放军第二军医大学
主分类号: C07D491/22 分类号: C07D491/22;A61K31/475;A61P35/00;//;221:00;221:00;209:00;313:00)
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 丁振英
地址: 200433*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及医药技术领域,是新的具有抗肿瘤活性的高喜树碱类化合物及其用途和高喜树碱类化合物新的制备方法。本发明化合物结构如通式(I)所示,R1为低级卤代烷基、新的取代杂环烷基或含取代氨基的取代基;或/和在R2、R3、R4位置为硝基或氨基取代;R5表示低级烷基。本发明的高喜树碱类化合物制备方法成本低、收率高。本发明化合物具有抑制拓扑异构酶的作用,并具有抗肿瘤活性和抗病毒活性,可用作拓扑异构酶抑制剂,以及用于制备抗肿瘤药物和抗病毒药物。
搜索关键词: 喜树碱 化合物 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
1.高喜树碱类化合物,包括外消旋形式、对映异构体形式及其药用盐,其化学结构通式如式(I)所示,其特征在于:R1表示低级卤代烷基,条件是R2、R3、R4至少有一个为氢以外基团,所述低级卤代烷基是含1-3个卤原子取代的含1-6个碳原子的直链或支链烷基;或R1表示(CH2)m[N=X];或R1表示H、低级烷基、(CH2)mNR6R7,条件是R2、R3、R4中至少有一个为硝基或氨基;R2、R3、R4独立地表示H、卤素、低级烷基、OR8、硝基、氨基,或者R3和R4一起形成3或4元的链,或者R2和R3一起形成3或4元的链,其中该链的元素选自CH2、O;R5表示低级烷基;R6和R7独立地表示H、低级烷基或低级芳烷基,所述的低级芳烷基为连接有芳基的低级烷基;R8表示低级烷基;[N=X]表示4至7元杂环基,X表示构成杂环基所需要的链并选自CH、CH2、O、S、N或NR9;R9表示取代或未取代的芳基或杂环基,芳基指的是取代或未取代的含至少一个芳环的单环或双环化合物,杂环基指的是取代或未取代的含1至3个杂原子(N、S、P或O)的杂环基团;m表示0-6之间的整数;所述的低级烷基为含1-6个碳原子的直链或支链烷基。
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