[发明专利]应用于低压渗碳热处理炉的动态控制系统

摘要

一种涉及一种真空渗碳热处理技术的控制系统，尤指一种应用于低压渗碳热处理炉的动态控制系统。该发明包括该系统的装置及热处理制程方法的具体工作步骤，该装置主要由计算机及控制软件、可编程控制器、热电偶、真空计、电源、工件及淬火室等组成，采用多参数输入计算机做为控制基础，使用两种以上的真空计，计算机根据已输入的各项参数，演算并作时时的动态控制，并通过控制马达变频器来达成指挥真空泵系统的必要抽吸量外，反复多次直到渗碳层深。本发明的优点是：可以节省渗碳材料量；增加炉装载量；增加渗碳之均匀性；减少真空系统之积碳；能以动态控制方式，自动产生复杂之制程；并可以完成计算机自动控制，免除人为操作可能的错误。

主权项

1、一种应用于低压渗碳热处理炉的动态控制系统，该系统的装置有计算机及控制软件、可编程控制器、热电偶、真空计、电源、工件及淬火室，其特征在于：可编程控制器、计算机及控制软件模块相互连接，可控硅整流器的一端与可编程控制器的输入端相连接，可编程控制器与加热室之间由主控炉温热电偶及过温控制热电偶相互连接，可编程控制器的一输出端通过数位信号输出线与加热室的输入端相连接，PIRANI真空计显示器的一端与加热室相连接，其输出端与可编程控制器的输入端相连接，薄膜式真空计显示器的一端与加热室相连接，其输出端与可编程控制器的输入端相连接，加热室内安置有热处理工件，加热室与淬火室连为一体，中间有门隔离。