[发明专利]X射线相衬位相差放大成像装置无效
| 申请号： | 200410016723.7 | 申请日： | 2004-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1560613A | 公开（公告）日： | 2005-01-05 |
| 发明（设计）人： | 陈建文;高鸿奕;李儒新;徐至展 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N23/00 | 分类号： | G01N23/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种X射线相衬位相差放大成像装置，包括相干的X射线源，其特征是在该相干的X射线源的输出光路方向设置第一单晶硅片和第二单晶硅片，第一单晶硅片将入射的X射线分成两束，第二单晶硅片将两束X射线复合，其中一束X射线穿过待测样品，在两束X射线合并相交的位置设有探测器，还有一台计算机从该探测器获取X射线全息干涉图并进行位相显示和放大。本发明具有结构简单、分辨率高的优点，它可为早期癌症诊断提供一种有效的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 相衬位 相差 放大 成像 装置 | ||
【主权项】：
1、一种X射线相衬位相差放大成像装置，包括相干的X射线源(1)，其特征是在该相干的X射线源(1)的输出光路方向设置第一单晶硅片(2)和第二单晶硅片(3)，第一单晶硅片(2)将入射的X射线分成两束，第二单晶硅片(3)将两束X射线复合，其中一束X射线穿过待测样品(4)，在两束X射线合并相交的位置设置探测器(5)，一台计算机(6)从该探测器(5)获取X射线全息干涉图并进行位相显示和放大。
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