[发明专利]用于金属有机化学气相沉积设备的双层进气喷头有效
申请号: | 200410017471.X | 申请日: | 2004-04-01 |
公开(公告)号: | CN1563483A | 公开(公告)日: | 2005-01-12 |
发明(设计)人: | 江风益;蒲勇 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/18 |
代理公司: | 江西省专利事务所 | 代理人: | 张文 |
地址: | 330029江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉积设备的双层进气喷头,包括封闭形的外壳体,在外壳体内有上进气腔和下进气腔,在上中层板与底板之间安装有与上进气腔和反应室连通的上出气管,在下中层板与底板之间安装有与下进气腔和反应室连通的下出气管,特征是下出气管的直径大于上出气管的直径,且上出气管放置于下出气管中。本发明还设计有冷却腔。第一路反应气体和第二路反应气体分别由上出气管、下出气管进入反应室,到达衬底表面。因此本发明具有能够将不同反应气体分别送入反应室、使反应气体充分混合均匀、减小预反应、制造成品率高的优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 金属 有机化学 沉积 设备 双层 喷头 | ||
【主权项】:
1、一种用于金属有机化学气相沉积设备的双层进气喷头,包括封闭形的外壳体(1),在外壳体(1)内固定有上中层板(4)和下中层板(5),在顶板(3)与上中层板(4)之间形成密封的上进气腔(2),在上中层板(4)与下中层板(5)之间形成密封的下进气腔(9),在外壳体(1)的侧壁(14)上安装有与上进气腔(2)连通的上进气管(17)、与下进气腔(9)连通的下进气管(16),在上中层板(4)与底板(6)之间安装有与上进气腔(2)和反应室(13)连通的上出气管(7),在下中层板(5)与底板(6)之间安装有与下进气腔(9)和反应室(13)连通的下出气管(8),其特征在于:下出气管(8)的直径大于上出气管(7)的直径,且上出气管(7)放置于下出气管(8)中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的