[发明专利]含非线性掩膜层的超分辨结构无效
申请号: | 200410017812.3 | 申请日: | 2004-04-15 |
公开(公告)号: | CN1564252A | 公开(公告)日: | 2005-01-12 |
发明(设计)人: | 张锋;施宏仁;徐文东;王阳;杨金涛;高秀敏;周飞;干福熹 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于只读式光盘的含非线性掩膜层的超分辨结构,依次是保护层、非线性反射膜和保护层,其特点是所述的保护层均由配比为硫化锌∶二氧化硅=80∶20复合材料组成;所述的非线性掩膜层由银铟锑碲(Ag11In12Sb51Te26)复合材料组成。本发明制作成本低廉,工艺简单,不仅可以实现小于超分辨信息记录点的读出,而且所获得的信噪比很高,大于40dB,读出循环性好。 | ||
搜索关键词: | 非线性 掩膜层 分辨 结构 | ||
【主权项】:
1、一种含非线性掩膜层的超分辨结构,包括保护层(1)、非线性掩膜层(2)和保护层(3)。其特征在于所述的保护层(1)和保护层(3)均硫化锌∶二氧化硅=80∶20的复合材料组成;所述的非线性掩膜层(2)由银铟锑碲Ag11In12Sb51Te26的复合材料组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410017812.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:加强带连续热合机
- 下一篇:含硫酸羟胺促进剂的低温无毒磷化液及其制备方法