[发明专利]高分子型二苯甲酮光引发剂及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200410017858.5 申请日: 2004-04-22
公开(公告)号: CN1562481A 公开(公告)日: 2005-01-12
发明(设计)人: 姜学松;罗小伟;印杰 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: B01J31/06 分类号: B01J31/06;C08F4/32
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟
地址: 200240*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了下式所示的一类新型高分子型二苯甲酮光引发剂及其制备方法。先以二羟基二苯甲酮和环氧氯丙烷为原料合成含双环氧基团的二苯甲酮,再将二苯甲酮和二仲胺单体溶于溶剂中,升温聚合几小时,得到高分子型二苯甲酮光引发剂。该光引发剂主链上同时含有光引发剂二苯甲酮和助引发剂胺,具有较高的光引发性能,在涂料、微电子及光学等领域有着广泛应用前景。
搜索关键词: 高分子 型二苯甲酮光 引发 及其 制备 方法
【主权项】:
1.高分子型二苯甲酮光引发剂,其特征在于高分子型二苯甲酮光引发剂的重复结构单元如下式所示:其中,聚合度n=1-500,R1分别独立选自氢,C1-C18的烷基,卤素;R2分别独立选自C2-C18的烷基,R3分别独立选自C1-C18的烷基。
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