[发明专利]一种基于多孔氧化铝模板纳米掩膜法制备纳米材料阵列体系的方法无效
| 申请号： | 200410019998.6 | 申请日： | 2004-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1594068A | 公开（公告）日： | 2005-03-16 |
| 发明（设计）人： | 袁志好;张晓光;别利剑;段月琴;崔永锋;王晶 | 申请（专利权）人： | 天津理工大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 天津德赛律师事务所 | 代理人： | 卢枫 |
| 地址： | 300191天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种基于多孔氧化铝模板纳米掩膜法制备纳米材料阵列体系的方法，它是由以下步骤所构成：(1)采用多孔氧化铝膜作为掩膜的模板，并将其覆盖在一定的基体材料上；(2)通过镀膜技术在基体材料上形成纳米颗粒阵列体系；(3)撤掉多孔氧化铝模板，得到纳米颗粒阵列体系；(4)利用步骤(1)、(2)、(3)所制备得的纳米颗粒阵列经过原位的化学反应转化，可进一步获得其他材料的纳米颗粒阵列体系。本发明的优越性在于该方法所制备的纳米材料具有尺寸、取向和位置可控及纳米材料的直径具有宽范围(5～200纳米)可调的特性；可在多种基体上组装纳米材料，可制备多功能纳米颗粒、纳米线、纳米管或纳米柱阵列体系。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 多孔 氧化铝 模板 纳米 法制 材料 阵列 体系 方法 | ||
【主权项】：
1、一种基于多孔氧化铝模板纳米掩膜法制备纳米材料阵列体系的方法，其特征在于它是由以下步骤所构成：(1)采用多孔氧化铝膜作为掩膜的模板，并将其覆盖在一定的基体材料上；(2)通过镀膜技术在基体材料上形成纳米颗粒阵列体系；(3)撤掉多孔氧化铝模板，得到纳米颗粒阵列体系；(4)利用步骤(1)、(2)、(3)所制备得的纳米颗粒阵列经过原位的化学反应转化，可进一步获得其他材料的纳米颗粒阵列体系。
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