[发明专利]一种西瓜霜的制备工艺

摘要

本发明涉及一种西瓜霜的制备工艺，其制备步骤如下：1)选取新鲜西瓜，将其清洗干净；2)在西瓜任意部位切一厚片作瓜盖，挖去部分肉瓤，将皮硝填入西瓜内，盖上瓜盖；3)将西瓜放入无釉瓦盆或裸置于温度为0～26℃，相对湿度1～60％的人工空调发霜房中；4)待西瓜表皮不断析出西瓜霜后，将其陆续刷下，直到无霜析出为止。由于本发明所公开的西瓜霜制备工艺是将西瓜置于人工空调发霜房中待其析霜，其制备工艺中的温度、湿度、析霜时间等相关因素均受到严格的人工控制，不会受到季节、气候等外界因素的影响，因此西瓜霜的析霜量大、质量稳定，改变了传统西瓜霜制备方法只能在秋冬季节制备西瓜霜、且产量低、质量不稳定的格局。

主权项

1、一种西瓜霜的制备工艺，其特征在于：1)选取新鲜西瓜，将其清洗干净；2)在西瓜任意部位切一厚片作瓜盖，挖去部分肉瓤，将皮硝填入西瓜内，盖上瓜盖；3)将西瓜放入无釉瓦盆或裸置于温度为0～26℃，相对湿度1～60％的人工空调发霜房中；4)待西瓜表皮不断析出西瓜霜后，将其陆续刷下，直到无霜析出为止。