[发明专利]二元光学器件变灰度掩模制作方法及装置

摘要

一种二元光学器件变灰度掩模制作方法，其特征在于它是将可显示灰阶图像的空间光调制器通过视频驱动器与计算机相连，由计算机控制和输入视频信号，再通过光束垂直照射电寻址的空间光调制器，由精缩物镜将空间光调制器上显示的灰阶图像成像置于二维位移平台上之感光版上，通过移动该平台对感光版进行逐个图形曝光，再经显影等工序后，完成灰度掩模的制作。本发明装置是将感光版置于二维位移平台上，可接收入射光束的精缩物镜位于空间光调制器和快门之间，快门位于感光版或精缩物镜上方，空间光调制器通过视频驱动器与计算机相连。本发明由于采用逐个图形进行曝光的方法使其具有内在的并行特性，可大大提高灰度掩模的制作速度和精度，降低生产成本。

主权项

1、一种二元光学器件变灰度掩模制作方法，其特征在于它是将可显示灰阶图像的空间光调制器通过视频驱动器与计算机相连，由计算机控制和输入视频信号，再通过光束垂直照射电寻址的空间光调制器，由精缩物镜将空间光调制器上显示的灰阶图像成像置于二维位移平台上之感光版上，通过移动该平台对感光版进行逐个图形曝光，再经显影、定影、水洗、干燥等处理工序后，完成灰度掩模的制作。