[发明专利]一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法无效
| 申请号： | 200410022936.0 | 申请日： | 2004-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN1560161A | 公开（公告）日： | 2005-01-05 |
| 发明（设计）人： | 朱永伟;王柏春;许向阳;许晓曙;谢圣中;曹志群 | 申请（专利权）人： | 长沙矿冶研究院 |
| 主分类号： | C09G1/04 | 分类号： | C09G1/04 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 马家骏;陈开姚 |
| 地址： | 410012湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明属于研磨抛光技术领域。涉及一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法。主要成分包括：纳米金刚石、改性剂、分散剂与/或超分散剂、pH值调节剂、润湿调节剂、具有化学作用的添加剂及去离子水。其制造方法主要包括：1.通过机械化学改性，将纳米金刚石的团聚体分散成平均粒度为20～100nm的小聚集体，2.除去悬浮液中的粗颗粒和其它杂质；3.添加调节工件与抛光液润湿特性的调节剂(润湿剂)、分散稳定剂、pH值调节剂、具有化学作用的添加剂及去离子水，超声或/和搅拌分散。该发明可用于各类光电子晶体、计算机硬盘基片、光学元器件及铜连接的半导体集成电路等的超精密抛光，将产品的表面粗糙度减小至亚纳米级。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 金刚石 抛光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种水基纳米金刚石抛光液，其组分与重量百分比如下：纳米金刚石 0.2-10.0％；改性剂 0.1-3.0％分散剂与/或超分散剂 0.02-5.0％；润湿剂 0.02-1.0％化学添加剂 0.1-1.0％去离子水 88.2-98.5％
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