[发明专利]用于半导体器件的成品率相似性的方法和系统有效

专利信息
申请号: 200410025413.1 申请日: 2004-06-14
公开(公告)号: CN1716519A 公开(公告)日: 2006-01-04
发明(设计)人: 王邕保 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;G06Q90/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 陈红
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于半导体器件的成品率相似性的方法和系统。该方法包括:提供第一批多个半导体器件;提供第二批多个半导体器件;获取与第一成品率相关联的第一批多个成品率;以及获取与第二成品率相关联的第二批多个成品率。此外,本方法包括:对第一批多个成品率执行第一统计分析;确定第一统计分布;对第二批多个成品率执行第二统计分析;以及确定第二统计分布。此外,本方法包括:处理与第一和第二统计分布相关联的信息;以及确定指示量。并且,本方法包括:处理与指示量相关联的信息;确定置信度水平;处理与置信度水平相关联的信息;以及确定第一成品率和第二成品率是否相似。
搜索关键词: 用于 半导体器件 成品率 相似性 方法 系统
【主权项】:
1.一种用于半导体器件的成品率相似性的方法,所述方法包括:提供第一批多个半导体器件;提供第二批多个半导体器件;获取第一批多个成品率,所述第一批多个成品率与和所述第一批多个半导体器件有关的第一成品率相关联;获取第二批多个成品率,所述第二批多个成品率与和所述第二批多个半导体器件有关的第二成品率相关联;对所述第一批多个成品率执行一个第一统计分析;至少基于与所述第一统计分析相关联的信息确定一个第一统计分布;对所述第二批多个成品率执行一个第二统计分析;至少基于与所述第二统计分析相关联的信息确定一个第二统计分布;处理与所述第一统计分布和所述第二统计分布相关联的信息;至少基于与所述第一统计分布和所述第二统计分布相关联的信息确定一个指示量,所述指示量与所述第一统计分布和所述第二统计分布之间的重叠面积相关联;处理与所述指示量相关联的信息;至少基于与所述指示量相关联的信息确定一个置信度水平;处理与所述置信度水平相关联的信息;至少基于与所述置信度水平相关联的信息确定所述第一成品率和所述第二成品率是否相似;其中,所述置信度水平与所述指示量的二次幂以及所述指示量的一次幂相关联;其中,所述确定所述第一成品率和所述第二成品率是否相似的步骤包括:如果所述置信度水平等于或者高于95%,则确定所述第一成品率和所述第二成品率是相似的;如果所述置信度水平低于95%,则确定所述第一成品率和所述第二成品率是不相似的。
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