[发明专利]湿蚀刻设备有效
| 申请号： | 200410027229.0 | 申请日： | 2004-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN1696346A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 高胜洲;黄荣龙;欧振宪;黄昌桂;陈青枫;黄志鸿 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;H01L21/70 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种湿蚀刻设备，其包括一基板承载室、一干传送区、一干燥室、一漂洗室及一蚀刻区，该基板承载室、干燥室、漂洗室及蚀刻区顺序呈直线排列，该湿蚀刻设备还包括一升降室及一干传送带，该干传送带位于该干燥室、漂洗室及蚀刻区的上方，且与基板承载室及升降室连接。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种湿蚀刻设备，包括一基板承载室、一干传送区、一干燥室、一漂洗室及一蚀刻区，其特征在于：该基板承载室、干燥室、漂洗室及蚀刻区顺序呈直线排列，该湿蚀刻设备还包括一升降室及一干传送带，该干传送带位于该干燥室、漂洗室及蚀刻区的上方，且与基板承载室及升降室连接。
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