[发明专利]曝光系统的仿真方法和仿真装置无效
| 申请号： | 200410027941.0 | 申请日： | 2004-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1716098A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 赖建廷;彭家鹏 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/133;H01L21/00;G06F3/00;G06T1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种曝光系统的仿真方法，其包括以下步骤：建立光学系统模型；初始化设置一数据处理装置；在该数据处理装置中设置光学系统的相关参数；提供需要仿真的图案；分析该图案；对输入的图案分析并将该图案做变换以获取该光学系统入射面的远场衍射光的光强分布光谱；将衍射光谱与光学系统的传递函数相乘可得通过该光学系统的有效衍射光谱；对有效衍射光谱做相应的逆变换可得到最终光线的强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 仿真 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统的仿真方法，其包括以下步骤：建立光学系统模型；初始化设置一数据处理装置；在该数据处理装置中设置光学系统的相关参数；提供需要仿真的图案；分析该图案；对输入的图案分析并将该图案做变换以获取该光学系统入射面的远场衍射光的光强分布光谱；将衍射光谱与光学系统的传递函数相乘可得通过该光学系统的有效衍射光谱；对有效衍射光谱做相应的逆变换可得到最终光线的强度分布。
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