[发明专利]用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法有效
| 申请号： | 200410028456.5 | 申请日： | 2004-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN1530752A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | L·庞;F·－C·常 | 申请（专利权）人： | 数字技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;G06F17/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 掩模的严重缺陷会危害在该晶片上形成的集成电路的功能性。不会影响功能性的损害性缺陷耗费昂贵的资源。一种具有基于任务的自动化的缺陷分析工具可以精确有效地确定缺陷适印性。这个工具可以利用掩模文件运行任务，以模拟在给定的参数组条件下，掩模所提供的晶片曝光。这些参数可以涉及该掩模自身、用于生成掩模文件的检查系统、可用于曝光掩模的分档器。任务过程中所进行的对掩模缺陷的处理可以均匀地完成。这种均匀性允许工具有效地运行多个任务。任务结果可以利用不同级别的细节表现从而帮助用户复查。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提供 基于 任务 自动化 光刻 缺陷 适印性 分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于分析光刻中所使用的掩模的方法，该方法包含：将掩模文件加载到缺陷分析工具中；利用该掩模文件指定所要运行的任务，其中该任务定义了对掩模缺陷所均匀进行的处理中所使用的参数；管理任务并将该任务分配给计算资源；利用该掩模文件和所定义的参数，在计算资源上运行该任务；从计算资源中输出该任务的结果，其中该结果包括掩模缺陷的适印性结果。
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