[发明专利]光刻装置中质量体的位置控制无效
| 申请号： | 200410028619.X | 申请日： | 2004-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN1538242A | 公开（公告）日： | 2004-10-20 |
| 发明（设计）人： | H·布特勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种尤其用于光刻装置中的控制器，它通过控制力来控制质量体如衬底台(12)的位置。控制器可从所述质量体(12)接收反馈位置信号，并根据所述反馈位置信号和所述控制力计算估计质量()。然后，控制器利用所述估计质量()和所需的质量加速度来确定加速所述质量体(12)所需的控制力，并将其移动到所需的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 质量 位置 控制 | ||
【主权项】：
1.一种设置成通过根据所需质量加速度利用控制力为质量体(12)提供质量加速度来控制所述质量体的位置的控制器，其特征在于：所述控制器设置成可接收包括所述质量体(12)的状态信息的反馈信号，以便根据所述反馈信号和所述控制力计算所述质量加速度和所述控制力之间的估计关系，并利用所述估计关系和所述所需的质量加速度来确定所述控制力。
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