[发明专利]基板处理装置及送液装置有效
| 申请号： | 200410028733.2 | 申请日： | 2004-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN1530176A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 高木善则;福地毅;北泽裕之;安藤美奈子 | 申请（专利权）人： | 大日本屏影象制造株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;F04B7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安;郑建晖 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种不产生颗粒，将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外，在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积减少，管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外，通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积增加，将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在基板上形成特定的处理液的膜的基板处理装置，其特征为，具有保持基板的保持台、将所述特定的处理液向基板的主面上排出的狭缝喷嘴、供给所述特定处理液的供给机构、将所述特定处理液向所述狭缝喷嘴送液的送液组件，所述送液组件具有可变更内部容积的容器部件、在内部构成所述特定的处理液的流路的同时可变更内部容积的管部件、可变更所述容器部件的内部容积地驱动的驱动组件，所述管部件设置在所述容器部件的内部，在所述容器部件与所述管部件之间的空间中内封有间接液。
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