[发明专利]图像曝光设备无效
| 申请号： | 200410028766.7 | 申请日： | 2004-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN1534376A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 铃木厚司;服部毅 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达控股株式会社 |
| 主分类号： | G03B27/32 | 分类号： | G03B27/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李瑞海;王景刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在卤化银光敏材料上曝光图像的图像曝光设备，包括：一个或多个用于发射光图像的阵列光源，每个阵列光源具有多排发光器件，多排中每一排具有被排成一条直线的多个发光器件，并且多排发光器件的相邻两排的其中一排在纵向上被移位形成发光器件的交错布局；以及一个聚光器件，用于将从阵列光源发出的光图像会聚到卤化银光敏材料上。其中，多排发光器件中各排间的间距不大于500微米。 | ||
| 搜索关键词： | 图像 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于在卤化银光敏材料上曝光图像的图像曝光设备，包括：一个或多个用于发光的阵列光源，每个阵列光源包括多排发光器件，多排发光器件中的每一排具有多个排成一条直线的发光器件，多排发光器件中相邻两排的至少一排在纵向方向移位形成发光器件的交错布局；聚光器件，将从阵列光源发出的光图像会聚在卤化银光敏材料上，其中，多排发光器件中各排间的间距不大于500微米。
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