[发明专利]半导体制造设备和半导体器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 200410029644.X 申请日: 2004-03-26
公开(公告)号: CN1532900A 公开(公告)日: 2004-09-29
发明(设计)人: 黑泽哲也;田久真也;持田欣也;渡边健一 申请(专利权)人: 株式会社东芝;琳得科株式会社
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 李峥;于静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种减少半导体芯片断裂、崩屑等不良,制造高品质半导体器件,并且抑制制造成品率低下的具有粘着性带剥离机构的半导体制造设备和半导体器件的制造方法。具备剥离机构,该剥离机构被保持台3支撑,用在粘着性带24的剥离方向至少分为至少2个吸附区的多孔质材料吸附固定粘着性带的所述半导体晶片一侧,剥离粘贴在分成小片后的半导体晶片上的粘着性带24。对半导体晶片的每个半导体芯片1的背面粘贴粘合剂层。通过所述多孔质材料吸附固定半导体晶片,控制2系统以上的真空配管系统,在剥离前后一边转换二等分以上的吸附组和真空系统一边剥离粘着性带,从台上剥离一个个半导体芯片。能够制成叠层半导体芯片的叠式MCP制品。
搜索关键词: 半导体 制造 设备 半导体器件 方法
【主权项】:
1.一种半导体制造设备,具备:剥离机构,剥离在由背面上粘贴粘合剂层的多个半导体芯片构成并分成小片后的半导体晶片的器件形成面上粘接的粘着性带;所述剥离机构,具有吸附部,其利用在粘着性带的剥离方向至少分为2个吸附区的多孔质材料吸附固定所述半导体晶片。
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