[发明专利]量测待测物表面轮廓的装置及方法有效
申请号: | 200410030218.8 | 申请日: | 2004-03-22 |
公开(公告)号: | CN1673670A | 公开(公告)日: | 2005-09-28 |
发明(设计)人: | 许华珍;童启弘;张中柱 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种量测待测物表面轮廓的装置及方法,是通过由检索宽频光的干涉强度以检测宽频光的干涉强度分布的变化,并对宽频光所包括的至少一特定波长的干涉强度分布进行转换,以取得至少一特定波长的相位分布图,再对至少一特定波长的相位分布图进行相位还原的处理以取得至少一特定波长的相位还原图,最后,对至少一特定波长的相位还原图进行相位-物理尺度的转换,即可取得待测物的表面轮廓。 | ||
搜索关键词: | 量测待测物 表面 轮廓 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种量测待测物表面轮廓的装置,其特征在于包括:一宽频光源,是用以提供一宽频光,该宽频光是包括至少一特定波长的光波;一光束整形系统,是用以接收该宽频光,并将该宽频光输出;一分光镜,是用以接收该光束整形系统所输出的该宽频光,并输出之,并用以接收一干涉宽频光,并输出之;一参考镜面,是用以入射一参考光,并反射之;一分合光元件,是用以将该分光镜所输出的该宽频光分成一量测光以及该参考光,该量测光是用以入射至该待测物表面,并反射之,该分合光元件将反射的该量测光以及该参考光合光后,输出该干涉宽频光;一位移器,是以调整该分合光元件与该参考镜面及该分合光元件与该待测物之间的距离;以及一阵列式强度检测器,是用以接收该分光镜所反射的该干涉宽频光,并对该至少一特定波长的光波进行分析以取得该待测物表面轮廓。
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