[发明专利]灰色调掩模的缺陷检查方法和灰色调掩模的制造方法无效
| 申请号： | 200410030983.X | 申请日： | 2004-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN1534365A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 池边寿美 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;H01L29/786;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种灰色调掩模的缺陷检查方法，该灰色调掩模在薄膜晶体管基板的制造工序中使用，并具有遮光部(11a、11b)、透光部(12)和灰色调部(13)，其特征在于，上述方法包括把具有超过规定容许范围的缺陷水平的黑缺陷和/或白缺陷的掩模作为不良而抽出的灰色调部的缺陷检查工序；关于上述规定容许范围，白缺陷的比黑缺陷的大(使白缺陷的阈值较大(不严格)，使黑缺陷的阈值较小(严格))。从而可在不降低灰色调掩模制造的成品率的前提下防止在TFT基板中发生缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 色调 缺陷 检查 方法 制造 | ||
【主权项】：
1.一种灰色调掩模的缺陷检查方法，该灰色调掩模在薄膜晶体管基板的制造工序中使用，并具有遮光部、透光部和灰色调部，其特征在于，上述方法包括把具有超过规定容许范围的缺陷水平的黑缺陷和/或白缺陷的掩模作为不良而抽出的灰色调部的缺陷检查工序；关于上述规定容许范围，白缺陷的比黑缺陷的大。
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