[发明专利]相对于支撑台定位基片的方法与设备

摘要

一种对准装置，包括：(1)第一推块，其适于接触支撑于支撑台上的基片的边缘，并适于沿第一平移路径横向平移；(2)第二推块，其适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并与所述第一平移路径相交；(3)一框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在所述基片的所述边缘的高度上；(4)第一偏置元件，其连接到所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠在所述基片的所述边缘上；(5)第二偏置元件，其连接到所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。本发明还提供了其它方式。

主权项

1.一种对准装置，其适于横向推动支撑于支撑台上的基片，以使所述基片相对于所述支撑台滑动，所述对准装置包括：第一推块，所述第一推近器适于接触支撑于所述支撑台上的基片的一个边缘，并适于沿第一平移路径横向平移；第二推块，所述第二推块适于接触所述基片的所述边缘并适于沿第二平移路径横向平移，所述第二平移路径与所述第一平移路径成一定角度并在一路径交接点与所述第一平移路径相交；一个框架，所述第一和第二推块可移动地连接于其上，所述框架适于将所述第一和第二推块保持在支撑于所述支撑台上的所述基片的所述边缘的高度上；第一偏置元件，其连接在所述第一推块与所述框架之间并适于将所述第一推块压靠在所述基片的所述边缘上；第二偏置元件，其连接在所述第二推块与所述框架之间并适合独立于所述第一推块的偏压作用而将所述第二推块压靠在所述基片的所述边缘上。