[发明专利]磁记录媒体的制造方法以及磁记录媒体无效
| 申请号： | 200410031362.3 | 申请日： | 2004-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1538393A | 公开（公告）日： | 2004-10-20 |
| 发明（设计）人： | 诹访孝裕;高井充;服部一博 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;C23F4/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 经志强;潘培坤 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了面记录密度高且记录·读取精度高的磁记录媒体的制造方法以及磁记录媒体。其解决方案为，在连续记录层和第一掩膜层(34)间形成中间保护膜(24A)，在分割了连续记录层后，保留分割记录单元(20)上的中间保护膜(24A)，并去除第一掩膜层(34)。另外，在用非磁性体(28)填充分割记录单元(20)间的间隙部(26)后，去除第一掩膜层(34)。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 媒体 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录媒体的制造方法，其特征在于，包含：连续记录层形成工序，在基板表面上形成连续记录层；中间保护层形成工序，在所述连续记录层上形成中间保护层；掩膜层形成工序，在所述中间保护层上形成掩膜层；掩膜层加工工序，按照规定图案部分去除所述掩膜层和所述中间保护层；连续记录层加工工序，去除在所述连续记录层中从所述掩膜层露出的部分，按照所述规定图案将该连续记录层分割为多个分割记录单元；掩膜层去除工序，在所述分割记录单元上保留所述中间保护层并去除该中间保护层上的掩膜层；并且，依次进行所述连续记录层加工工序和所述掩膜层去除工序。
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