[发明专利]基片处理设备有效

专利信息
申请号: 200410031411.3 申请日: 2004-03-29
公开(公告)号: CN1534726A 公开(公告)日: 2004-10-06
发明(设计)人: 光吉一郎 申请(专利权)人: 大日本屏影象制造株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 肖春京
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 当将前敞口单元化箱(80a,80b)分别安装到格架(111d,121c)上时,格架(121a,121b,121c)即分别由气缸(127a,127b,127c)驱动而沿垂向运动。前敞口单元化箱(80b)由此移动到前敞口单元化箱(80a)上而形成空间(129),用以保证前敞口单元化箱(80a)的输送路径。前敞口单元化箱(80a)于是可输送到格架(141)上而不需将前敞口单元化箱(80b)移动到另一格架之上,这样就提高了基片的处理量。
搜索关键词: 处理 设备
【主权项】:
1.基片处理设备,它包括:用于在基片上执行预定处理的基片处理单元;以及用以保持于其中存储基片的容器且将此容器中存储的基片输送到上述基片处理单元的基片输送单元;其中,上述基片输送单元包括:将此容器安装于其上而将此容器中的存储的基片运送到此基片处理单元的安装部;包含有按第一预定间隔沿垂向排列的多个第一格架的第一格架行,每个第一格架上能安装上述容器;设于上述安装部与第一格架行之间,且包含有按第二预定间隔沿垂向排列的多个第二格架,每个第二格架上能安装上述容器;用来将此第一格架行的多个第一格架中至少一个对象与此多个第二格架中对应的一个相对于其余的沿垂向位移的位移件,由此保证了容器输送路径的高度大于该第二格架行中的第二预定间隔;以及用来将安装于这多个第一格架上的上述对象格架上的容器沿上述位移件形成的容器输送路径依水平方向输送到上述安装部上且保持此容器的输送件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本屏影象制造株式会社,未经大日本屏影象制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410031411.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top