[发明专利]滤色器阵列及其制造方法、显示装置、投影型显示装置有效
申请号: | 200410031642.4 | 申请日: | 2004-03-31 |
公开(公告)号: | CN1573466A | 公开(公告)日: | 2005-02-02 |
发明(设计)人: | 饭坂英仁 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02B5/20 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 分别对应于(B)用的像素电极(41b)、(R)用的像素电极(41r)、(G)用的像素电极(41g),形成(B)、(R)、(G)用的干涉型滤色层(31)、(32)、(33)的图形,并分别间隔层间膜(35)、(36)、(37)层叠配置这些滤色层,从而可以实现干涉型滤色器阵列的微细化。 | ||
搜索关键词: | 滤色器 阵列 及其 制造 方法 显示装置 投影 | ||
【主权项】:
1.一种滤色器阵列,其特征在于:间隔透光性的层间膜地依次层叠有透射相互不同的色光的多种干涉型滤色层,上述不同种类的干涉型滤色层俯视为相互邻接地配置。
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