[发明专利]具有用于直镀磁极片的改进整形层的垂直磁头无效
| 申请号： | 200410031897.0 | 申请日： | 2004-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1551108A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | 杰弗里·S·里尔 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/187 | 分类号： | G11B5/187 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明的磁头包括暴露于磁头的空气支承表面处的第一磁极和不暴露于空气支承表面处的第二磁极整形层。一层非磁性材料制造在空气支承表面和整形层之间，其中非磁性材料也是导电的。在整形层的制造之后，磁头的极尖电镀在非磁性导电材料的上面，并且与整形层磁通相通。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 磁极 改进 整形 垂直 磁头 | ||
【主权项】：
1.一种磁头，包括：第一磁极，其具有暴露于磁头的空气支承表面(ABS)处的其一部分；第二磁极的整形层部分，所述整形层与所述第一磁极磁通相通，并且不具有暴露于所述ABS处的部分；一层非磁性、导电材料，其位于所述整形层和所述ABS之间。
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