[发明专利]排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法有效
| 申请号： | 200410031928.2 | 申请日： | 2004-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1536443A | 公开（公告）日： | 2004-10-13 |
| 发明（设计）人： | 森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/023 | 分类号： | G03F7/023 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂布法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有(A)聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)在6000以上的碱溶性酚醛清漆树脂，(C)含萘醌二迭氮基化合物以及(D)有机溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 排出 喷嘴式 涂布法用正型光致抗蚀剂 组合 以及 抗蚀图 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂布面上涂布正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂布法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有(A)聚苯乙烯换算重均分子量在6000以上的碱溶性酚醛清漆树脂、(C)含萘醌二迭氮基化合物、以及(D)有机溶剂。
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