[发明专利]光刻设备、装置制造方法和计算机程序

摘要

在扫描曝光中，短行程模块以比长行程模块更大的加速度加速掩模或基底台。该短行程模块开始于其移动范围的一个极限位置处或靠近其移动范围的一个极限位置处，且在扫描期间赶上该长行程模块。该长行程模块较早开始减速，但是该短行程模块减速更快，以使该短行程模块赶上该长行程模块，并终止于其移动范围的另一个极限位置处。可减少加速时间而不需要增大该长行程模块致动器作用的力，由此消耗和反作用力增加较少。

主权项

1、一种光刻投影设备，包括：-辐射系统，其用于提供辐射的投影束；-支撑结构，其用于支撑图案形成装置，该图案形成装置根据所需的图案使投影束组成图案；-基底台，其用于保持基底；-投影系统，其用于将组成图案的束投射到基底的目标部分上；以及-定位系统，其用于定位物体，所述物体为支撑结构和基底台中的至少一种，所述定位系统具有串接的一长行程模块和一短行程模块以及一用于控制长行程模块和短行程模块以所需速度沿所需路线移动被定位的物体的控制系统；其特征在于：通过控制所述短行程模块以对所述物体施加所需加速度和通过控制所述长行程模块以施加较小的加速度，所述控制系统适于控制所述长短行程模块以在所述物体上施加所需加速度。