[发明专利]一种包括传感器的组件，其制造方法及光刻投影设备有效
| 申请号： | 200410032688.8 | 申请日： | 2004-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1550914A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | R·布林克霍夫;M·E·J·布恩曼;M·J·M·－E·德尼维尔勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨松龄 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括传感器的组件，该传感器用于测定光刻投影设备(1)中基板(W；11)表面的倾斜度和高度其中至少一个。所述基板(W；11)可以沿基本平行于基板表面的至少一个路径相对传感器移动。所述光刻投影设备具有曝光扫描方向(y)，该组件设置为沿所述至少一个路径相对所述传感器连续移动该基板，并且提供有关沿所述至少一个路径的倾斜度和高度其中至少一个的测量信息。该组件包括用于存储所述测量数据的存储器(10)，以备所述光刻投影设备以后对所述基板曝光时使用。所述基板的所述至少一个路径至少部分地与曝光扫描方向成一角度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 包括 传感器 组件 制造 方法 光刻 投影设备 | ||
【主权项】：
1.一种包括传感器的组件，该传感器用于测定光刻投影设备(1)中基板(W；11)表面的倾斜度和高度其中的至少一个，该基板(W；11)可以相对所述传感器沿与基板表面基本平行的至少一个路径移动，该光刻投影设备具有曝光扫描方向(y)，该组件设置为相对所述传感器沿所述至少一个路径连续移动该基板，并且提供沿所述至少一个路径的关于倾斜度和高度其中至少一个的测量数据，该组件包括用于存储所述测量数据的存储器(10)，以备所述光刻投影设备以后对基板进行曝光时使用，其特征在于所述基板的至少一个路径至少部分地与所述曝光扫描方向成一角度。
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