[发明专利]曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法有效
| 申请号： | 200410032706.2 | 申请日： | 2004-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1577090A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 安顺一;罗柄善;李正荣;宋俞莉 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;G02F1/136 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;彭焱 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于提高成品收率的曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法。为了提高成品收率，通过掩膜对基片上的层进行光扫描。通过该层的曝光在基片上形成图案。扫描的方向基本上垂直于该图案的长度方向。减小由于图案耦合形成的电容差以及通过绝缘层形成的导电层。因此，减少了显示器的故障并提高了成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 利用 制造 用于 液晶显示器 薄膜晶体管 | ||
【主权项】：
1.一种用于层曝光的方法，包括以下步骤：将包括图案形状的掩膜设置在所述层上，所述层形成于基片上；以及用光扫描所述掩膜，以致所述扫描方向基本垂直于所述图案形状的长度方向以形成图案。
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