[发明专利]化学去污液的处理方法及设备有效
| 申请号： | 200410032867.1 | 申请日： | 2001-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1540675A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | 远田正见;矢板由美;齐藤宣久;青井洋美;稻见一郎;酒井仁志;平良木哲;高松义成 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G21F9/20 | 分类号： | G21F9/20;C02F1/461 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 去污 处理 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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