[发明专利]投影系统及利用该投影系统的方法有效
| 申请号： | 200410032892.X | 申请日： | 2004-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1538243A | 公开（公告）日： | 2004-10-20 |
| 发明（设计）人： | M·H·A·里德斯;H·H·M·科西;L·M·勒瓦斯尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种投影系统，包括至少一个投射装置(10)，该投影装置设置为接收来自第一物体(MA)的投射光束(PB)，并将该投射光束投射到第二物体(W)上。投影系统(PL)进一步包括传感器(11)，该传感器用于测量至少一个投射装置(10)的空间定向。投影系统(PL)包括处理单元(40)，该处理单元设置为与至少一个传感器(11)相连。处理单元(40)进一步设置为与定位装置(PW，PM)连接，定位装置设置为根据测得的至少一个投射装置(10)的空间定向来调整第一(MA)和第二物体(W)中至少一个的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 系统 利用 方法 | ||
【主权项】：
1.投影系统，包括至少一个投射装置(10)，该投影装置设置为接收来自第一物体(MA)的投射光束(PB)，并向第二物体(W)投射该投射光束，投影系统(PL)进一步包括至少一个传感器(11)，该传感器用于测量至少一个投射装置(10)的空间定向，其特征在于，投影系统(PL)包括至少一个处理单元(40)，该处理单元设置为与至少一个传感器(11)连接，其中至少一个处理单元(40)进一步设置为与定位装置(PW，PM)连接，定位装置设置为根据测得的至少一个投射装置(10)的空间定向来调整第一(MA)和第二物体(W)中至少一个的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410032892.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于后撑的衬垫构件
- 下一篇：用于动力操纵的车盖的驱动单元
