[发明专利]多阶存储单元无效
申请号: | 200410033263.9 | 申请日: | 2004-03-29 |
公开(公告)号: | CN1677674A | 公开(公告)日: | 2005-10-05 |
发明(设计)人: | 张格荥;黄丘宗 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L27/115;G11C16/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种多阶存储单元,包括基底、穿隧介电层、电荷陷入层、顶介电层、栅极以及源极/漏极区。其中,穿隧介电层、电荷陷入层以及顶介电层依序配置在基底与栅极之间,且顶介电层中划分有至少二区块,顶介电层在每一区块内的厚度皆不相同。而源极/漏极区则设置在栅极两侧的基板中。由于顶介电层在每一区块内的厚度皆不相同,因此当施加电压于存储单元时,每一区块所对应的栅极与基底之间的电场强度即不相同,而使每一区块所对应的电荷陷入层内所储存的电荷量并不相同。故能在单一存储单元储存多个位,而可提高存储单元的存储容量。 | ||
搜索关键词: | 存储 单元 | ||
【主权项】:
1.一种多阶存储单元,包括:一基底;一栅极,设置于该基底上;一源极区与一漏极区,分别设置于该栅极两侧的该基底中;以及一底氧化硅/氮化硅/顶氧化硅层,设置于该栅极与该基底之间,该顶氧化硅层从该源极区至该漏极区划分为一第一区块与一第二区块,该第一区块的该顶氧化硅层厚度与该第二区块的该顶氧化硅层厚度不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的