[发明专利]光学基材的制造方法无效
| 申请号： | 200410033305.9 | 申请日： | 2004-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN1677130A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 廖宗能;潘重华;潘重德;李俊錡 | 申请（专利权）人： | 辅祥实业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/04 | 分类号： | G02B1/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光学基材的制造方法，包含有下列步骤：(A)加热一第一材料以及一第二材料至熔融状态：(B)将该第一材料与该第二材料堆叠在一起：(C)加压该第一材料与该第二材料，使之形成一具有一预定宽度与一预定厚度的基材；(D)在该第二材料的表面成形一预定的表面纹路；(E)冷却该基材，以及(F)切割该基材。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 基材 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学基材的制造方法，其特征在于包含有下列步骤：加热一第一材料以及一第二材料至熔融状态；将该第一材料与该第二材料堆叠在一起；加压该第一材料与该第二材料，使之形成一具有一预定宽度与一预定厚度的基材；在该第二材料的表面成形一预定的表面纹路；冷却该基材，以及切割该基材。
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