[发明专利]半导体基板洗涤液组合物无效
| 申请号： | 200410033493.5 | 申请日： | 2004-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN1542110A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 阿部优美子;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;H01L21/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种洗涤液，其具有从裸硅表面、Low－K膜这样的疏水性表面将粒子除去的高粒子去除能力。本发明通过在诸如草酸的有机酸的水溶液中组合特定的有机溶剂，使洗涤液与疏水性表面的润湿性提高。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 洗涤液 组合 | ||
【主权项】：
1、一种洗涤液组合物，其用于水滴下时表面的接触角为70度以上的半导体基板的洗涤，所述洗涤液组合物由选自通式[1]所示化合物中1种以上的有机溶剂、脂肪族多元羧酸和水构成，所述洗涤液组合物滴到所述半导体基板上时的接触角为40度以下，R1-O-(-R2-O-)n-R3 [1]其中：R1为碳数1～6的烷基，R2为亚乙基或亚丙基，n为0～4，R3为氢或碳数1～6的烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于关东化学株式会社，未经关东化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410033493.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
