[发明专利]氮化镓基肖特基势垒高度增强型紫外探测器及制作方法无效

专利信息
申请号: 200410033587.2 申请日: 2004-04-07
公开(公告)号: CN1681135A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: 赵德刚;杨辉 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108;H01L31/18;G01J1/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种氮化镓基肖特基势垒高度增强型紫外探测器,其中包括:一衬底;一高N型掺杂浓度层,该欧姆接触层制作在衬底上;一有源层,该有源层制作在高N型掺杂浓度层的上面,该有源层的面积小于欧姆接触层;一肖特基势垒高度增强层,该肖特基势垒高度增强层制作在有源层上;一N型肖特基接触电极,该肖特基电极制作在肖特基势垒高度增强层上;一N型欧姆接触电极,该N型欧姆接触电极制作在高N型掺杂浓度层上。
搜索关键词: 氮化 镓基肖特基 势垒高度 增强 紫外 探测器 制作方法
【主权项】:
1、一种氮化镓基肖特基势垒高度增强型紫外探测器,其特征在于,其中包括:一衬底;一高N型掺杂浓度层,该欧姆接触层制作在衬底上;一有源层,该有源层制作在高N型掺杂浓度层的上面,该有源层的面积小于欧姆接触层;一肖特基势垒高度增强层,该肖特基势垒高度增强层制作在有源层上;一N型肖特基接触电极,该肖特基电极制作在肖特基势垒高度增强层上;一N型欧姆接触电极,该N型欧姆接触电极制作在高N型掺杂浓度层上。
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