[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法有效
申请号: | 200410033705.X | 申请日: | 2004-04-08 |
公开(公告)号: | CN1536439A | 公开(公告)日: | 2004-10-13 |
发明(设计)人: | 中山宪治 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种灰色调掩模的缺陷校正方法。该灰色调掩模具有:灰色调部,是对透光量进行了调整的区域,其目的是通过减少透过该区域的光的透光量可选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚;遮光部和透光部,其特征在于,包括:对在上述灰色调部(3)中发生的缺陷进行校正的工序(图1(3));对上述校正后的灰色调部的图像实施模糊处理,生成转印图像的工序;以及根据上述转印图像评价上述校正后的灰色调部的工序(图1(4)、(4″)。由此,在进行正常图形和所有校正图形的判定的情况下,可容易地对灰色调部在用户的曝光和转印处理中是否发生问题进行判定(检查,保证)和校正。 | ||
搜索关键词: | 色调 缺陷 校正 方法 | ||
【主权项】:
1.一种灰色调掩模的缺陷校正方法,该灰色调掩模具有:灰色调部,是对透光量进行了调整的区域,其目的是通过减少透过该区域的光的透光量,可选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚;遮光部;和透光部,其特征在于,包括:对在上述灰色调部中发生的缺陷进行校正的工序;对上述校正后的灰色调部的图像实施模糊处理,生成转印图像的工序;以及根据上述转印图像评价上述校正后的灰色调部的工序。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
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