[发明专利]灰色调掩模的缺陷检查方法有效
| 申请号： | 200410033706.4 | 申请日： | 2004-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN1536440A | 公开（公告）日： | 2004-10-13 |
| 发明（设计）人： | 池边寿美 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种灰色调掩模的判定(检查，保证)和校正方法。该灰色调掩模具有：灰色调部，是对透过量进行了调整的区域，其目的是通过减少透过该区域的光的透过量而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚；遮光部和透光部，其特征在于，具有：(1)生成上述灰色调部的图像数据的工序；(2)根据上述图像数据，实施使得能够识别出灰色调部的缺陷的图像处理的工序；以及(3)根据上述图像处理后的数据，进行缺陷检查的工序。由此，在对正常图形和所有校正图形进行判定的情况下，可容易地对灰色调部在用户的曝光和转印处理中是否发生问题进行检查(判定)。 | ||
| 搜索关键词： | 色调 缺陷 检查 方法 | ||
【主权项】：
1.一种灰色调掩模的缺陷检查方法，该灰色调掩模具有：灰色调部，是对透过量进行了调整的区域，其目的是通过减少透过该区域的光的透过量而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚；遮光部；和透光部，其特征在于，包括：生成上述灰色调部的图像数据的工序；根据上述图像数据，实施使得能够识别出灰色调部中的缺陷的图像处理的工序；以及根据上述图像处理后的数据，进行缺陷检查的工序。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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