[发明专利]嵌入式芯片的电性连接端结构及其制法有效
申请号: | 200410033861.6 | 申请日: | 2004-04-15 |
公开(公告)号: | CN1684239A | 公开(公告)日: | 2005-10-19 |
发明(设计)人: | 许诗滨;蔡琨辰 | 申请(专利权)人: | 全懋精密科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/44;H01L23/48 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是一种嵌入式芯片的电性连接端结构及其制法,该结构包括:电性连接垫、沉积在该电性连接垫上的金属层、沉积在该金属层上的导电层以及以电镀方式沉积在该导电层上的电镀金属层;该制法是在嵌埋有芯片的电路板结构上形成绝缘层,且使该绝缘层形成多个开口,其中至少一开口对应该芯片的电性连接垫位置,外露出该电性连接垫,还在该芯片的电性连接垫上形成金属层,并在该金属层与该绝缘层及其开口表面形成导电层,接着在该导电层上形成图案化阻层,使该阻层形成多个开口,外露出后续要在其上沉积金属层的导电层部分,之后进行电镀工序,在显露于该图案化阻层的导电层上形成电镀金属层;本发明可有效缩短工序流程与时间,并可减少工序、降底成本。 | ||
搜索关键词: | 嵌入式 芯片 连接 结构 及其 制法 | ||
【主权项】:
1.一种嵌入式芯片的电性连接端结构的制法,其特征在于,该制法包括:提供嵌埋有芯片的电路板,该芯片表面具有多个电性连接垫;在该嵌埋有芯片的电路板上形成一绝缘层,并使该绝缘层形成多个开口,其中至少一个开口对应于该芯片的电性连接垫位置;在该芯片的电性连接垫上形成金属层;在该金属层与该绝缘层及其开口表面形成导电层; 在该导电层上形成图案化阻层,使该图案化阻层形成多个开口,以外露出后续要在其上沉积金属层的导电层部分,其中至少一个开口对应至该芯片的电性连接垫位置;以及进行电镀工序以在显露于该图案化阻层的导电层上形成电镀金属层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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