[发明专利]半导体光接收器件及其制造方法无效
申请号: | 200410034383.0 | 申请日: | 2004-04-15 |
公开(公告)号: | CN1538533A | 公开(公告)日: | 2004-10-20 |
发明(设计)人: | 须原基 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10;H01L27/14;H01L31/18 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了一种半导体光接收器件,该器件能够接收第一波长波段的光束和第二波长波段的光束,第二波长波段的光束具有比第一波长波段的光束更短的波长。该器件具有在半导体衬底的半导体表面区域上形成的第一导电类型的光吸收层,光吸收层吸收第一和第二波长波段的光束。第一导电类型的顶层形成在光吸收层上。在覆盖层中,形成传输第二波长波段的光束的第二导电类型的区域。光收集层形成在半导体表面区域上并且与覆盖层和光吸收层相邻。光收集层具有凸起形状,该凸起形状具有曲率,以收集第二波长波段的光束。 | ||
搜索关键词: | 半导体 接收 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体光接收器件,包括:一个半导体衬底;一个第一导电类型的光吸收层,其在半导体衬底的半导体表面区域上形成,该光吸收层吸收包括第一波长波段的光束和包括具有比第一波长波段的波长更短的波长的第二波长波段的光束;一个第一导电类型的覆盖层(cap layer),其在光吸收层上形成;一个第二导电类型区域,其在覆盖层上形成来传输包括第二波长波段的光束;和一个光收集层,其形成于与覆盖层和光吸收层相邻的半导体表面上,该光收集层的至少一部分表面具有带曲率的凸起形状,以将包括第二波长波段的光束传输和收集到光吸收层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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