[发明专利]聚焦检测和用它的倾斜调整方法及装置有效
| 申请号： | 200410034697.0 | 申请日： | 2004-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1637880A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 川村贵史 | 申请（专利权）人： | 利达电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/08 | 分类号： | G11B7/08;G11B7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够更高速的或者对振动和调整时的外来干扰抵抗性强的或者更低成本的聚焦检测装置和倾斜调整系统。聚焦检测装置设置有一维光能分布检测单元(4)和聚焦状态判定单元(5)。分布检测单元(4)，关于基准面(1)上的预定区域内的任意位置上的像，从由该基准面(1)上的像产生的二维光能分布，检测该像整体的至少一个的一维光能分布。聚焦状态判定单元(5)，根据该检测出的一维光能分布，判定基准面(1)上的像的聚焦状态。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 检测 倾斜 调整 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种聚焦检测方法，其特征在于包括：关于基准面上的预定区域内的任意位置上的像，从由该像产生的上述基准面上的二维光能分布，检测出关于上述整个像的至少1个一维光能分布的步骤、和根据上述至少1个一维光能分布，判定上述基准面上的上述像的聚焦状态的步骤。
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