[发明专利]化学机械研磨剂组合及其化学机械研磨方法无效

专利信息
申请号: 200410034759.8 申请日: 2004-05-12
公开(公告)号: CN1550538A 公开(公告)日: 2004-12-01
发明(设计)人: 仕田裕贵;金野智久;服部雅幸;川桥信夫 申请(专利权)人: 捷时雅株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 北京金信联合知识产权代理有限公司 代理人: 南霆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明中所涉及的化学机械研磨方法是,用含有研磨粉粒的化学机械研磨用水性分散体(A)进行研磨后,再并用化学机械研磨用水性分散体(A)和含有一种以上杂环有机化合物的化学机械研磨用水性组成物(B)来研磨。本发明中所涉及的化学机械研磨剂组合是,由化学机械研磨用水性分散体(A),以及化学机械研磨用水性组成物(B)来组合而成。运用本发明,可防止凹陷的扩大及线路部分的腐蚀,从而提高产品合格率。
搜索关键词: 化学 机械 研磨剂 组合 及其 研磨 方法
【主权项】:
1、一种化学机械研磨剂组合,由含有研磨粉粒的化学机械研磨用水性分散体(A),以及含有一种以上杂环有机化合物并不与化学机械研磨用水性分散体(A)形成混合状态的化学机械研磨用水性组成物(B)来组合而成。
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