[发明专利]光刻投影组件、用于处理基底的处理装置和处理基底的方法无效
| 申请号： | 200410035209.8 | 申请日： | 2004-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1540443A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | P·J·M·范格鲁斯;P·R·M·肯努斯;J·F·胡格坎姆;A·J·H·科洛普;J·安里;R·维斯塞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;郑建晖 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻投影组件，包括：至少两个装载锁闭装置，用于在第一环境与第二环境之间传送基底，第二环境具有比第一环境更低的压力；基底处理器包括：主要处于第二环境的处理室；光刻投影装置，包括投影室。处理室和投影室通过装载位置和卸载位置相通，一方面，装载位置用于将基底从处理室引入投影室，另一方面，卸载位置用于将基底从投影室移到处理室。处理室设有：预处理装置，用于预处理基底；和传输装置，适于将基底从装载锁闭装置传送到预处理装置并且从预处理装置传送到装载位置，也可以将基底从卸载位置传送到装载锁闭装置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 组件 用于 处理 基底 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影组件，包括：●至少两个装载锁闭装置，用于在第一环境与第二环境之间传送基底，第二环境具有比第一环境更低的压力；●基底处理器，包括主要处于第二环境的处理室；●光刻投影装置，包括投影室；处理室和投影室通过装载位置和卸载位置相通，一方面，装载位置用于将基底从处理室引入投影室，另一方面，卸载位置用于将基底从投影室移除到处理室；处理室设有：●预处理装置，用于预处理基底；和●传输装置，适于将基底从装载锁闭装置传送到预处理装置并且从预处理装置传送到装载位置，也可以将基底从卸载位置传送到装载锁闭装置。
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