[发明专利]羟基磷灰石涂层的表面纳米化方法

摘要

本发明公开了一种羟基磷灰石涂层的表面纳米化方法，该方法包括采用双工艺等离子喷涂法制备厚度为30－60微米的第一层羟基磷灰石涂层和制备厚度为20－40微米的第二层羟基磷灰石涂层以及涂层的晶化处理等步骤。本发明的方法使涂层表面均匀分布纳米粒子，表面纳米粒子的直径小于80纳米，涂层的结晶度大于80％，涂层的X射线衍射图中不出现氧化钙的衍射峰；且方法简单可行，涂层与基体结合牢固，表层致密并具有仿生结构，用作医用种植体材料的涂层具有优异的生物相容性、较快的成骨速度、界面结合牢固、长期稳定性好等优势。

主权项

1.一种羟基磷灰石涂层的表面纳米化方法，由以下步骤组成：(1)以医用纯钛或Ti64l4V为基体，用等离子喷涂法制备厚度为30-60微米的第一层羟基磷灰石涂层；其中羟基磷灰石粉末的粒度为38-106微米，喷涂功率为25-35kW，等离子气是体积混合比为40∶12的氩气和氢气，喷涂距离为80-100毫米，送粉速率为每分钟20-30克；(2)重复上述操作，紧接着在第一层涂层表面制备厚度为20-40微米的第二层羟基磷灰石涂层；其中羟基磷灰石粉末的粒度采用10-53微米，喷涂功率为30-45kW；(3)涂层的晶化处理：将上述涂层于大气环境下，由室温升至600℃-700℃，保温30-90分钟，其中升温速率为每分钟5℃，保温完毕后随炉降至室温。