[发明专利]具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置无效
| 申请号： | 200410036864.5 | 申请日： | 2004-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN1538244A | 公开（公告）日： | 2004-10-20 |
| 发明（设计）人： | V·Y·巴尼内 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，包括具有聚光器的EUV辐射源，该聚光器具有位于一凹表面上的第一反射器和位于一凸表面上的第二反射器，用于获得会聚的EUV辐射光束。这些表面用于安装反射镜。这意味着聚光器下游的反射镜可以省略。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 包括 凹面镜 凸面镜 聚光器 光刻 投影 装置 | ||
【主权项】：
1、一种光刻投影装置，包括用于产生辐射的辐射源和位于所述辐射源(51)附近的至少一个聚光器(59；63；73)，所述聚光器用于聚集所述辐射以提供辐射光束(52)，其特征在于：所述至少一个聚光器包括在一凹表面(53)上的第一反射器和在一凸表面(55)上的第二反射器，所述凸表面(53)环绕凹表面(55)，并且所述凹表面(53)上的第一反射器被设置成接收来自所述辐射源(51)的辐射并将它反射到位于所述凸表面(55)上的第二反射器以产生所述辐射光束(52)。
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