[发明专利]头位置解调方法和盘装置无效

专利信息
申请号: 200410037480.5 申请日: 2004-04-29
公开(公告)号: CN1577591A 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: 高石和彦 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G11B21/10 分类号: G11B21/10
代理公司: 北京东方亿思专利代理有限责任公司 代理人: 赵淑萍
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 通过从头的输出中得到的二相伺服信号PosN和PosQ来解调头位置,从而获得更精确的解调位置。由PosN和PosQ的各自绝对值之间的比值来判断PosN和PosQ的饱和,对于饱和区域和非饱和区域使用不同的解调方法,并且解调公式被构造为使得每个解调区域的边沿与相邻解调区域的边沿相匹配。另外,通过比较PosN的绝对值和PosQ的绝对值,并确定其比值是大于还是小于预定的饱和系数r,来判断是饱和还是非饱和。
搜索关键词: 位置 解调 方法 装置
【主权项】:
1.一种头位置解调方法,用于通过从记录在一个盘上的伺服信息中获得二相伺服信号PosN和PosQ来解调头的位置,所述方法包括:由所述PosN的绝对值和所述PosQ的绝对值之间的比值来判断所述PosN或所述PosQ的饱和区域和非饱和区域的步骤;在所述饱和区域中,通过将所述PosN和PosQ组合起来的第一解调公式来计算解调位置的第一步骤;以及在所述非饱和区域中,通过将所述PosN和PosQ组合起来的第二解调公式来计算解调位置的第二步骤。
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