[发明专利]具有用于增强耐磨性的受控晶粒尺寸和结构的涂层

摘要

可以通过优化晶粒尺寸和微观结构来显著提高现有技术的Ti(C，N)层的耐磨性。例如在许多碳钢中可以通过改变现有技术MTCVD Ti(C，N)涂层的晶粒尺寸和结构来获得明显更好的耐磨性。该改进的涂层由小柱状晶体构成。可以通过采用CO、CO₂、ZrCl₄和A1C1₃或这些的组合进行掺杂来确保对晶粒尺寸和形状的控制。必须小心控制掺杂以便保持柱状结构，并且还避免纳米晶粒结构和氧化。优选的晶粒尺寸应该在其晶粒宽度为30至300nm的亚微区域中。长宽比应该大于5，优选大于10，并且该涂层沿着422或331应该具有强优选生长晶向。XRD谱线展宽应该较弱。

主权项

1.一种刀具嵌入件，它由至少部分涂覆有涂层的烧结碳化物、金属陶瓷或陶瓷的基底构成，所述涂层总厚为10-40μm优选为15-25μm，所述涂层由一层或多层耐热层构成，其中至少一层为厚度为3至30μm优选为5-20μm的MTCVD Ti(C，N)层，其特征在于，所述层由柱状晶粒构成，其晶粒宽度为30至300nm，优选为50至200nm，并且其长宽比(L/W)≥3，优选＞5。