[发明专利]溶液淀积硫族化物薄膜

摘要

淀积金属硫族化物膜的方法。该方法的第一种包括：将至少一种金属硫族化物，肼化合物，以及可选的硫族元素相接触，制备金属硫族化物基前体溶液；将金属硫族化物基前体溶液施加到衬底上制成前体膜；将此前体膜退火，去除多余的肼和硫族化物盐，在衬底上制成金属硫族化物膜。第二种方法包括：将至少一种金属硫族化物和胺化合物的盐相接触，制备该金属硫族化物铵基前体；将金属硫族化物铵基前体，肼化合物，以及可选的硫族元素相接触，制备金属硫族化物在这种肼化合物中的基前体溶液；将金属硫族化物基前体溶液施加到衬底上制成前体膜；退火制成金属硫族化物膜。还提供使用金属硫族化物膜沟道层的薄膜场效应晶体管器件。

主权项

1.淀积金属硫族化物膜的第一种方法，包括步骤：将至少一种金属硫族化物，一种肼化合物，以及可选的，一种选自S，Se，Te或者它们的组合的硫族元素，相接触，以制备一种该金属硫族化物的基前体溶液，这种肼化合物可用式子R1R2N-NR3R4表示，其中R1，R2，R3和R4中的每一个都是各自独立的选自氢，芳基，甲基，乙基或者一种3-6个碳原子的直链的，支链的或者环状的烷基；将所述金属硫族化物的所述基前体溶液施加到衬底上制成一种所述前体膜；然后将此前体膜退火，去除多余的肼和硫族化物盐，以在所述衬底上制成金属硫族化物膜。